SPring-8 — 大型放射光施設

高エネルギー分解能HAXPES装置

◆装置概要

4.91-12 keVまでの共鳴HAXPES計測が可能です。試料電流収量(TEY)、SDDを用いた部分蛍光収量(PFY)によるX線吸収分光との複合計測を行うことができます。

写真：高エネルギー分解能HAXPES装置

◆装置の特徴

光電子アナライザー：Scienta Omicron社製R4000L1-12kV（12 keVまでの運動エネルギーの光電子を計測可能）
制御ソフト：Scienta Omicron社製SES, PEAK　（予定）
集光ミラー：Monolithic Wolterミラー（予定）
ビームサイズ：26(H)×0.5(V) μm² （予定）
ビームフラックス：>2E+12 photons/s （予定）
測定槽・準備槽の真空度：< 5E-7 Pa

◆装置アクセサリー

試料温度：10-400 K （液体ヘリウムフロー冷却）
XAFSとの複合計測：全電子収量法：TEY（試料電流）、部分蛍光収量法：PFY（シリコンドリフトディテクター：SDD）
電場印加マニピュレータ

◆実験・試料準備

通常は8×14 mm²の試料プレートに試料をカーボンテープ等を用いて貼り付けます。
プレートより大きい試料の測定を御希望の際は予め担当者に御連絡ください。

◆実験手順・注意事項

超高真空チャンバー内で計測するため、アウトガスの多い試料は計測不可です。また、光電子計測のため、絶縁体試料ではチャージアップにより計測不可となる可能性があります。これらの試料の計測を御希望の際には予め担当者に御連絡ください。

計測手法紹介ビデオ：https://youtu.be/zlJVfx6aK0Y

◆問い合わせ先

保井晃　このメールアドレスはスパムボットから保護されています。閲覧するにはJavaScriptを有効にする必要があります。
高木康多　このメールアドレスはスパムボットから保護されています。閲覧するにはJavaScriptを有効にする必要があります。
雀部矩正　このメールアドレスはスパムボットから保護されています。閲覧するにはJavaScriptを有効にする必要があります。

◆代表的な論文リスト

"Hard X-ray Photoemission Spectroscopy at Two Public Beamlines of SPring-8: Current Status and Ongoing Developments", E. Ikenaga, A. Yasui, N. Kawamura, M. Mizumaki, S. Tsutsui, and K. Mimura, Synchrotron Radiation News 31, 10 (2018). 10.1080/08940886.2018.1483652

"Electronic Structure of Ce-Doped and -Undoped Nd₂CuO₄ Superconducting Thin Films Studied by Hard X-Ray Photoemission and Soft X-Ray Absorption Spectroscopy", M. Horio, Y. Krockenberger, K. Yamamoto, Y. Yokoyama, K. Takubo, Y. Hirata, S. Sakamoto, K. Koshiishi, A. Yasui, E. Ikenaga, S. Shin, H. Yamamoto, H. Wadati, and A. Fujimori, Physical Review Letter 120, 257001 (2018). 10.1103/PhysRevLett.120.257001

High-Energy Resolution HAXPES Equipment

◆Equipment overview

Resonance HAXPES measurements can be performed within a range of 4.91-12 keV. It is possible to perform combined measurements of X-ray absorption spectrometry using Total Electron Yield (TEY) and Partial Fluorescence Yield (PFT) with the use of an SDD.

写真：

◆Features of the Equipment

Photoelectron Analyzer: R4000L1-12kV made by Scienta Omicron (measurements of photoelectrons of energy up to 12 keV)
Control Software: SES, Peak (program) made by Scienta Omicron
Focusing Mirror: Monolithic Wolter Mirror (program)
Beam Size: 26(H)×0.5(V) μm² （Program）
Beam Flux: >2E+12 photons/s （Program）
Degree of Vacuum for Measurement Tank/ Preparation Tank： < 5E-7 Pa

◆Equipment accessories

Sample Temperature: 10-400 K (Liquid Helium Flow Cooling)
Combined Measurements with XAFS: Total Electron Yield method: TEY (Sample Current), Partial Fluorescence Yield method: PFY (Silicon Drift Detector: SDD)
Electric Field Application Manipulator

◆Experiment / sample preparation

Generally, the sample is attached to a 8 x 14 mm ² sample plate using carbon tape or something similar.
Please contact the person in charge in advance if you wish to measure a sample larger than the sample plate.

◆Experimental procedure / precautions

Since the measurement is performed in an ultra high-vacuum chamber, it is not possible to measure samples with a large amount of outgas. In addition, for photoelectron measurements, it may not be possible to measure insulator samples due to charge-up. If you wish to measure these samples, please contact the person in charge in advance.

Methods of Measurement Introduction Video: https://youtu.be/zlJVfx6aK0Y

◆Contact

◆List of representative treatises